リフトオフプロセス用フォトレジスト 製品資料
半導体業界で20年以上の製造実績
弊社ではリフトオフプロセスに対応した特徴的なフォトレジスト（感光性材料）を開発しています。単層ポジ型レジストをはじめ、細線化に対応した２層型の各層レジストも取り揃えております。
2層型は業界汎用品に比べ、低温ベークにより容易なサイドエッチングのコントロールを実現。
お客様の個別のニーズ、細かなご要望にあわせた材料開発もご相談を承ります。
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単層ポジ型レジストをはじめ、細線化に対応した２層型の各層レジストも取り揃えております。
2層型は業界汎用品に比べ、低温ベークにより容易なサイドエッチングのコントロールを実現。
お客様の個別のニーズ、細かなご要望にあわせた材料開発もご相談を承ります。