リフトオフプロセス用フォトレジスト 製品資料
製品の強み
- 残渣除去性
- 高感度
- カスタマイズ性
- 経時安定性
- 良好な塗布性
- 現像コントロール
- 安定した品質と製造
容易な形状コントロールと低温ベーク加工(剥離容易性)を実現
リフトオフプロセスに対応した独自のフォトレジスト(感光性材料)を提供しております。単層ポジ型レジスト、及び細線化にも適した2層型レジストも提供しています。2層型は、業界標準の製品に比べて低温ベークを実現し、より剥離しやすくなっております。またアンダーカット量を、現像時間やベーク温度を変更することにより、容易にコントロールすることが可能です。
以下のご入力をお願いいたします。
*は必須項目です。