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リフトオフプロセス用フォトレジスト 製品資料

リフトオフプロセス用フォトレジスト 製品資料

製品の強み

  • 残渣除去性
  • 高感度
  • カスタマイズ性
  • 経時安定性
  • 良好な塗布性
  • 現像コントロール
  • 安定した品質と製造

容易な形状コントロールと低温ベーク加工(剥離容易性)を実現

リフトオフプロセスに対応した独自のフォトレジスト(感光性材料)を提供しております。



単層ポジ型レジスト、及び細線化にも適した2層型レジストも提供しています。2層型は、業界標準の製品に比べて低温ベークを実現し、より剥離しやすくなっております。またアンダーカット量を、現像時間やベーク温度を変更することにより、容易にコントロールすることが可能です。

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